路面附着力增强（在湿滑路面行驶路面附着力）

其中氧等离子体表面处理干法处理通常利用各种电离气体等离子体对ITO表面进行清洗。路面附着力增强以去除其表面污染，改善其表面形貌；在湿处理中，从而达到表面改性的目的，通过不同的有机溶剂将新基团结合在ITO表面。采用氧等离子体处理方法对ITO阳极进行表面改性。

3、不添加任何物质:低温等离子体废气处理是一种干式净化工艺。不会导致二次污染，不含任何添加剂，不产生废水、废渣，路面附着力增强是一种新型净化工艺。4、适应性强:持久的净化功能、无需特别护理。可适应浓度高、气体体积大、不同气体物质的净化处理。它可以在高温250℃和低温-50℃的环境下工作、特别是在湿度大的环境甚至是空气湿度饱和的环境下，它仍然可以正常工作。24小时连续工作，长期运行稳定可靠。

等离子体清洗可以让用户远离有害的溶剂对人体的危害,避免容易破坏的问题在湿法净化清洗对象;清洗过程没有清洁液体运输、存储、放电和其他处理技能、节能和环境清洁技能;3,它是广泛的,等离子体的方向不强，路面附着力增强允许它深入物体内部完成清洗任务，所以不需要过多考虑要清洗物体的形状。4、成本低，等离子清洗真空所需Pa左右。

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处理后的凯夫拉尔表面活性增强、粘结效果明显改善。通过对等离子体加工参数的不断优化、应用范围也越来越广，其效果将进一步提高。手表配件采用等离子体清洗机精密零件等离子体清洗机做表面清洗处理有两条气管、容易氧化的材料，可以连接介绍了氮气、氩气等惰性气体。不易氧化的材料可以连接到空气、氧气等活性气体，可以增强等离子体清洗机的使用范围，降低用户的成本。

压力的增加意味着等离子体密度的增加和平均粒子能量的降低。对于以化学反应为主的等离子体，其增加可以显着增加密度。揭示了以物理冲击为主的等离子清洗系统对提高等离子系统的清洗速度的效果。事实并非如此。此外，压力的变化可能会改变等离子清洗反应的机理。例如，在硅片刻蚀工艺中使用的CF4/O2等离子体中，离子冲击在低压下起主要作用，逐渐成为主导，化学刻蚀不断增强，而在高压下。

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正是由于圆片清洗是半导体制造工艺中很重要、频繁的工步,而且其工艺质量将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性,所以国内外各大公司、研究机构等对清洗工艺的研究一直在不断地进行。等离子体清洗作为一种先进的干式清洗技术。等离子清洗机也在半导体行业的应用越来越多，随着微电子行业的迅速发展，具有绿色环保等特点。

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